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固始去離子水設(shè)備

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工藝設(shè)備

去離子水是通過(guò)離子交換樹(shù)脂除去水中的離子態(tài)雜質(zhì)而得到的近于純凈的水，其生產(chǎn)裝置設(shè)計(jì)的合理與否直接關(guān)系到去離子水質(zhì)量的好壞及運(yùn)營(yíng)的經(jīng)濟(jì)性。 

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去離子水制取工藝及其特點(diǎn)

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固始1、離子交換樹(shù)脂制取去離子水的傳統(tǒng)水處理方式，其基本工藝流程為：

原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→陽(yáng)床→陰床→混床→后置保安過(guò)濾器→用水點(diǎn)。

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（特點(diǎn)：污染比較大，自動(dòng)化程度低，初期投入低）

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2、反滲透-離子交換設(shè)備制取去離子水，水質(zhì)穩(wěn)定，純度較高，其基本工藝流程為：

固始原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→反滲透設(shè)備→混床→超純水箱→超純水泵→后置保安過(guò)濾器→用水點(diǎn)。

固始（特點(diǎn)：污染小，自動(dòng)化程度高，初期投入中等，價(jià)格適中）

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固始3、反滲透設(shè)備與電去離子（EDI）設(shè)備進(jìn)行搭配制取去離子水的的方式，這是一種制取超純水的最新工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟(jì)，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に?，其基本工藝流程為?/span>

原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→反滲透設(shè)備→電去離子（EDI）→超純水箱→超純水泵→后置保安過(guò)濾器→用水點(diǎn)。

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固始（特點(diǎn)：環(huán)保，自動(dòng)化程度高，初期投入大，價(jià)格相對(duì)比較貴。）

處理步驟

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從自來(lái)水到去離子水一般要經(jīng)過(guò)幾步處理 ：

固始1、先通過(guò)石英砂過(guò)濾顆粒較粗的雜質(zhì)。

2、然后高壓通過(guò)反滲透膜。

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3、最后一般還要經(jīng)過(guò)紫外殺菌以去除水中的微生物。

4、假如此時(shí)電阻率還沒(méi)有達(dá)到要求的話(huà)，可以再進(jìn)行一次離子交換過(guò)程最高電阻率可達(dá)到18兆。

固始相對(duì)而言，蒸餾水只是先氣化再冷凝，其純度如電阻率一般不如純度高的去離子水，半導(dǎo)體工業(yè)中用的大多數(shù)是高純度的去離子水。

主要用途

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1、實(shí)驗(yàn)室、化驗(yàn)室用水，一般實(shí)驗(yàn)室的常規(guī)試驗(yàn)、配置常備溶液、清洗玻璃器皿等；

固始2、電子工業(yè)生產(chǎn)，如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線(xiàn)路板、計(jì)算機(jī)硬盤(pán)、集成電路芯片、單晶硅半導(dǎo)體等；

固始3、電力鍋爐，鍋爐所需軟化水、除鹽；

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固始4、汽車(chē)、家用電器、建材表面涂裝、電鍍、鍍膜玻璃清洗等；

5、石油化工行業(yè),化工反應(yīng)冷卻水、化學(xué)藥劑、生產(chǎn)配液用水等；

6、工業(yè)紡織印染、鋼鐵清洗用水等；

固始7、食品、飲料、酒類(lèi)、化妝品生產(chǎn)用水；

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固始8、海水、苦咸水等凈化。

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